工研院化工所，最近宣佈成功研發「平面光波導（PLC）晶片」（下圖，化工所提供），該項有機無機混成奈米材料，將應用於製備光通訊元件，為國內首創奈米製備光通訊元件之關鍵材料。此項奈米材料與其他材料的相容性佳，並兼具有機與無機材料的優點，尺寸安定性高、加工容易、能依需求調控光學性質，將協助國內產業發展更具國際競爭力之光通訊產品。

化工所所長鄭武順表示，目前應用於平面光波導的高分子材料皆由國外大廠如日立、杜邦、陶氏化學、奇異等所掌握，由於各國廠商的策略應用，該材料並不向聯盟以外的公司提供，因此國內光通訊廠商長期以來面臨材料取得不易的困境。

化工所在經濟部精密與機能性化學科技專案支持下，結合工研院光電所、中山大學光電研究所在光學設計與材料量測方面的專長，在三年內開發出此項新材料。同時，為順應國內光纖到戶的寬頻通訊時代，具有自動化量產、體積小、及多通道數的平面光波導元件或系統，將取代傳統製造的光纖技術，成為台灣光通訊產業必然發展的勢。

化工所光電材料技術組副組長張光偉說，發展具有良好光學性質且易於製作微細線路的材料，是平面光波導技術最重要的條件。現階段市場上製造光通訊元件的材料，可概分為無機材料與高分子材料兩類，無機材料安定但不容易依不同需求做調控改變，而且製程繁複；高分子材料可塑性佳，但材料光學性質的再現性與穩定性仍待改善。

由化工所特別設計具感光性的有機無機混成奈米材料，兼具無機材料的機械強度與高分子材料易加工兩者優點，可以曝光成像，能以簡單的旋轉塗佈及曝光顯影方式直接做出導光線路，省卻傳統半導體製程中必須蝕刻的步驟，不僅縮短研發到製程的時間，更可大幅減少元件製造廠的設備投資成本。

負責此項技術研發的化工所研究員田珮強調，化工所開發的新型材料透光率高、儲存安定性佳、能依不同的光學特性需求加以調控，經元件級的回切法（cut-back）測試，材料的光損耗率（optical loss）達0.5dB/cm，符合國際大廠製作高分子平面光波導材料的標準；精確控制折射率再現的表現（小至小數點以下第四位）更優於國際各大廠。

2004-04-02╱工商時報╱第33版╱自動化工業專輯╱記者李水蓮╱台北報導